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镁合金表面处理系列

•   •  镁合金化成工艺

•   •  镁合金化学镍工艺

•   •  镁合金腔体电镀工艺

•   •  镁合金微弧氧化/阳极氧化工..

铝合金表面处理系列

•   •  铝合金皮膜工艺

•   •  铝合金纳米处理工艺

•   •  铝合金腔体电镀工艺

•   •  铝合金阳极氧化工艺

化学镀镍/铜系列

铝/不锈钢/铜/钕铁硼前处理

脱漆/褪镀系列

金属防腐及防锈系列

其他电镀系列及滤芯

铝合金腔体电镀工艺

特性及用途：1.镀层光亮，覆盖力强，平整性好。2.操作范围宽，使用简单。3.电流效率高，附着性良好。

特性及用途：
1.镀层光亮，覆盖力强，平整性好。
2.操作范围宽，使用简单。
3.电流效率高，附着性良好。

溶液组成及操作条件：
焦磷酸铜       70-90 g/L
焦磷酸钾         250-280 g/L
 XHL-721         10-20 ml/l
PH值             8.6-9.0
温度             50-60℃
阳极             电解铜
包装             25L/桶